株式会社ホロン 半導体検査装置の開発、製造、販売、保守サービス

文字の大きさ

サイトマップ

お問合せ

English

会社情報

沿革

1985年5月 東京都新宿区に(株)ホロンを設立 資本金 33,000千円
1985年11月 東京都狛江市にテクニカルセンターを設立
1986年10月 電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA-11)を開発・発表
1989年12月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-21を発表
1992年9月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-31を発表
1995年12月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-51を発表
1996年3月 テクニカルセンターを東京都狛江市から埼玉県所沢市に新設・移転
1997年12月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-61を発表
1998年12月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-200/300を開発・発表
ステンシルマスク検査技術(特許)を確立、発表
1999年1月 EMU-200を海外に出荷開始
1999年12月 磁気ヘッド形状測定装置EMR-100を完成
電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-71を発表
2000年12月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-220/330を発表
2002年9月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置、海外向けバージョンとしてEMU-220Aを発表
2003年4月 EMU-220A、海外に出荷開始
本店を移転(東京都新宿区は変わらず)
2004年4月 韓国支店を開設
2004年10月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-250を発表
2005年2月 JASDAQ(現 東京証券取引所JASDAQ)上場
2005年8月 EMU-270を開発・発表
2006年11月 電子スタンパーEBLITHOを開発・発表
2009年1月 EMU-270Aを開発・発表
2009年7月 本社を東京都新宿区から埼玉県所沢市に移転
2009年8月 NEDO助成事業に2件採択「電子ビーム式次世代パターン高速検査装置の開発」
「シームレスモールドステッパー製作とその実デバイス量産性能評価」
2010年11月 EMUシリーズをモデルチェンジし、Z7を発表
2010年12月 ロールモールド評価用SEM(Roll-SEM)を開発
2011年2月 nano tech大賞2011 微細加工技術部門賞を受賞(Roll-SEM)
2013年5月 NEDO助成事業に採択「大気開放型SEMを組み込んだ大型ロール検査装置の開発」
2013年11月 EDS分析のLEXa-7を発表
2014年5月 NEDO助成事業に採択「NILナノパターンの観察計測ができる高分解能CD-SEMの開発」
2015年12月 ウェハ用CD-SEM ESPA-3000シリーズを開発・発表
2016年3月 品質マネジメントシステムISO9001認証取得
2017年1月 デバイス用マスクCD-SEM をモデルチェンジし、ZXを発表・販売開始
2017年1月 フォトマスク用DR-SEMの高機能版 LEXa-10 HRを発表
2018年6月 株式会社エー・アンド・デイの連結子会社となる