株式会社ホロン 半導体検査装置の開発、製造、販売、保守サービス

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2020年12月08日お知らせ
PDF「第36期第2四半期 株主通信」を掲載(4.7 MB)
2020年11月06日適時開示
PDF「2021年3月期 第2四半期決算短信〔日本基準〕(非連結)」を掲載(296KB)
2020年11月06日お知らせ
PDF「業績予想の修正に関するお知らせ」を掲載(90KB)
2020年09月18日お知らせ
PDF「第三者割当増資における発行株式数の確定に関するお知らせ」を掲載(97KB)
2020年09月01日お知らせ
PDF「発行価格等の決定に関するお知らせ(金融商品取引法第15条第5項に基づく公表文)」を掲載(127KB)
2020年09月01日お知らせ
PDF「発行価格及び売出価格等の決定に関するお知らせ」を掲載(85KB)
2020年08月24日お知らせ
PDF「新株式発行並びに株式売出届出目論見書」を掲載(1.7MB)
2020年08月24日お知らせ
PDF「公募及び第三者割当による新株式発行並びに株式売出しのお知らせ」を掲載(306KB)
2020年08月06日適時開示
PDF「2021年3月期 第1四半期決算短信〔日本基準〕 (非連結)」を掲載(343KB)
2020年07月09日お知らせ
PDF「新工場建設に関するお知らせ」を掲載(302KB)
2020年06月25日お知らせ
PDF「支配株主等に関する事項について」を掲載(131KB)
2020年06月25日お知らせ
PDF「第35期株主通信」を掲載(3.9MB)
2020年06月25日お知らせ
PDF「第35回定時株主総会決議ご通知」を掲載(85KB)

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FM 638414/ISO9001
ZX
ZX
フォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術、チャージ対策技術をさらに進化させて開発しましたsub-10nm最先端デバイス用マスクCD-SEM「ZX」の販売を開始いたしました。
FM 638414/ISO9001
LEXa-10 HR
LEXa-10 HR
フォトマスク用DR-SEM LEXa-10をさらに発展させ、分解能、安定性をより進化させたLEXa-10 HRを発表いたしました。フォトマスク、EUVマスク表面の微小粒子状物質、残留薄膜などの元素分析(EDS)を短時間で正確に行うことができます。ハイエンドプロセス開発加速に大いに貢献します。

当社は常にお客様のニーズに対応した製品を開発し、提供しております。