電子ビーム
フォトマスク欠陥レビュー分析装置
LEXa-20
LEXa-20は、電子ビーム
フォトマスクパターン寸法測定装置で実績のある低真空技術を採用し、“見たいものが見える”を実現！チャージアップの低減を行いながらAIによる異物の判別から元素分析まで全自動で行える唯一の装置です。EUVリソグラフィ導入において欠かせない装置であり、EUVマスク製造工程及びウエハファブで使用されています。
特長
- - 低真空技術によるフォトマスクの全面観察及び元素分析が可能
- - 低加速電圧により低ダメージ分析が可能
- - AIによる異物の自動判別機能、センタリング機能
- - 光学式欠陥検査装置との座標リンク機能
- - 元素マッピング機能
※LEXaシリーズの詳細仕様、装置構成につきましてはこちらよりお問い合わせください。