沿革

1985年5月	東京都新宿区に（株）ホロンを設立 資本金 33,000千円
1985年11月	東京都狛江市にテクニカルセンターを設立
1986年10月	電子ビーム微小寸法測定装置（ESPA-11）を開発・発表
1989年12月	電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-21を発表
1992年9月	電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-31を発表
1995年12月	電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-51を発表
1996年3月	テクニカルセンターを東京都狛江市から埼玉県所沢市に新設・移転
1997年12月	電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-61を発表
1998年12月	マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-200/300を開発・発表
1999年1月	EMU-200を海外に出荷開始
1999年12月	磁気ヘッド形状測定装置EMR-100を完成 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-71を発表
2000年12月	マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-220/330を発表
2002年9月	マスク用電子ビーム微小寸法測定装置、海外向けバージョンとしてEMU-220Aを発表
2003年4月	EMU-220A、海外に出荷開始 本店を移転（東京都新宿区は変わらず）
2004年4月	韓国支店を開設
2004年10月	マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-250を発表
2005年2月	JASDAQ（現 東京証券取引所JASDAQ）上場
2005年8月	EMU-270を開発・発表
2006年11月	電子スタンパーEBLITHOを開発・発表
2009年1月	EMU-270Aを開発・発表
2009年7月	本社を東京都新宿区から埼玉県所沢市に移転
2010年11月	EMUシリーズをモデルチェンジし、Z7を発表
2010年12月	ロールモールド評価用SEM（Roll-SEM）を開発
2011年2月	nano tech大賞2011 微細加工技術部門賞を受賞（Roll-SEM）
2013年11月	EDS分析のLEXa-7を発表
2014年5月	NEDO助成事業に採択「NILナノパターンの観察計測ができる高分解能CD-SEMの開発」
2015年12月	ウェハ用CD-SEM ESPA-3000シリーズを開発・発表
2016年3月	品質マネジメントシステムISO9001認証取得（本社）
2017年1月	デバイス用マスクCD-SEMをモデルチェンジし、ZXを発表・販売開始
2017年1月	フォトマスク用DR-SEMの高機能版 LEXa-10 HRを発表
2018年6月	株式会社エー・アンド・デイの連結子会社となる
2021年7月	本社工場を埼玉県所沢市から東京都立川市へ移転
2022年4月	株式会社エー・アンド・デイと経営統合 株式会社Ａ＆Ｄホロンホールディングス（プライム市場上場）の直接出資会社となる
2023年10月	台湾支店を開設