ホロンの製品について

ホロンの製品とは

当社は電子ビームを応用し半導体製造に必要なマスク及びウエハを寸法測定・欠陥レビューする装置を販売しております。（マスク及びウエハは下図「ステッパーの原理」をご参照ください）

当社の主要製品をよりよくご理解頂く為に、当社製品の利用方法と使用される工程をご説明致します。

当社の主力製品であるマスク用CD-SEMは、半導体製造プロセス（図1）のマスク製造工程で必要となります。マスク製造工程で使用される装置には、”マスクパターン形成（描画）装置”や”マスク検査装置”がありますが、当社製品は電子ビームを使用した”マスク寸法測定・欠陥レビュー装置”となります。

マスクは、CADで作られた描画データを基に、マスク描画装置でブランクスと呼ばれる石英ガラス基板にパターンが形成され、検査・修正等の後に完成します。ここまでがマスク製造工程です。

その後、マスクは半導体デバイス工場に納入され、フォトリソ工程の“転写”（図1）に使われます。転写工程では、ステッパー（縮小投影装置）に原版として組み込まれ、数十枚のマスクを交換しながらウエハに縮小転写します。尚、ステッパに使用されるマスクを特に「レチクル」と表現する場合があります。

「Critical Dimension-Scanning Electron Microscope」電子ビームによる超微細寸法測定装置のこと。