電子ビーム
フォトマスクパターン寸法測定装置
ZX
ZXは、ホロンがフォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術とチャージアップ抑制技術をさらに進化させてsub-10nmノードフォトマスクに対応したCD-SEMです。
多くの半導体メーカー、ファンドリメーカー、及びフォトマスクメーカーで採用されています。
特長
- - ナノパターンを高速かつ高精度に計測することが可能
- - 収差補正技術による低加速電圧で高精細なイメージを取得することが可能
- - 低真空技術によりチャージアップを低減
- - 多彩なアプリケーション（多点計測・輪郭抽出・2D測定・欠陥レビュー・3D表示）
- - 様々なサンプルに対応（EUVマスク・NIL用Qzモールド・PETフィルムモールド・DSAフィルムなど）
ZX-D
ZX-Dは、レガシープロセス向けフォトマスクに対応したCD-SEMです。プラットフォームがZXと共通なので、お客様のニーズに合わせてZXにアップグレードすることも可能です。
※Zシリーズの詳細仕様、装置構成につきましてはこちらよりお問い合わせください。