電子ビーム
フォトマスクパターン寸法測定装置

HSS-1000

HSS-1000は、従来機ZXから大幅に性能を向上させ、1.6nmノード以降のEUVマスク製造に求められる極めて高いCD測定精度を実現。さらに、薄膜吸収層や開発中のレジストに対しても、クリアで高精細なSEM画像の取得が可能です。

特長

• -　新設計の電子光学系と収差補正技術により、高精細なSEM画像を実現し、微細パターンの観察精度を飛躍的に向上
• -　描画装置並みの精度と高速性を備えたビーム制御回路により高速かつ高精度なCD測定を可能にし、量産対応力を強化
• -　低入射エネルギー（100eV）によるレジストへの低ダメージ観察機能によりレジストシュリンクを抑えた高精細観察が可能
• -　新開発プラットフォームによるパレットレス搬送と高速ステージによりスループットを大幅に向上し、量産現場のニーズに対応
• -　AI技術によるビーム焦点・位置ずれの予測補正とDe-noise処理により、SEM画像のさらなる高精細化と安定化を実現
• -　低真空とVUV光の併用による強力なチャージ対策により帯電による画像劣化を抑制し、安定した観察をサポート
• -　Curvilinearパターン対応の高精度輪郭抽出機能により、曲線パターンに対してもパターンのエッジ位置計測が可能

ZX

ZXは、ホロンがフォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術とチャージアップ抑制技術をさらに進化させてsub-10nmノードフォトマスクに対応したCD-SEMです。

多くの半導体メーカー、ファンドリメーカー、及びフォトマスクメーカーで採用されています。

特長

ZX-D

ZX-Dは、レガシープロセス向けフォトマスクに対応したCD-SEMです。プラットフォームがZXと共通なので、お客様のニーズに合わせてZXにアップグレードすることも可能です。

※Zシリーズの詳細仕様、装置構成につきましてはこちらよりお問い合わせください。