电子束
光掩模电子束关键尺寸量测设备(Mask CD-SEM)
HSS-1000
HSS-1000在原有 ZX 机型的基础上大幅提升了性能，实现了满足 1.6nm及以下节点的EUV 掩模制造所需的极高 CD 测量精度。并且，对于薄膜吸收层以及正在开发中的光刻胶，也能获得高品质的 SEM 图像。
特点
- - 通过全新设计的电子光学系统和像差校正技术能够生成高分辨率的SEM图像，显著提高测量超微细图案的精度。
- - 通过采用与电子束曝光机相同精度的高速控制电源系统，实现高速且高精度的 CD 测量，从而进一步强化量产应对能力。
- - 通过低入射能量（100 eV）的低损伤观测功能，可在抑制光刻胶收缩的同时实现高分辨率成像。
- - 通过新开发的无托盘搬送系统并配合高速工作台，大幅提升产能，以满足量产现场的需求。
- - 通过利用 AI 技术对束流焦点及束流轴线偏移进行预测性补偿，并结合 De-noise 技术，进一步提升了图像分辨能力和束流轴线稳定性。
- - 通过低真空与 VUV 光的并用，实现强效的荷电低减，对于由带电引起的图像劣化加以抑制，从而支持稳定的观测。
- - 通过高精度曲线图案（Curvilinear pattern）轮廓提取功能，可以测量曲线图案的边缘位置误差。
ZX
ZX是HOLON在对多年积累的独有的高分辨率技术和样品表面电荷积累抑制技术进一步升级的基础上，推出的兼容Sub-10nm技术节点的CD-SEM产品。
该设备已被众多半导体制造商、代工厂和光掩模制造商广泛采用。
特点
- - 高速且高精度的纳米图案测量能力
- - 通过像差修正技术，在低加速电压下实现高分辨率图像采集
- - 采用低真空技术，有效减少电荷积累
- - 支持多种应用，包括多点测量、轮廓提取、2D测量、缺陷复检和3D显示
- - 兼容多种样品类型，如EUV掩模、NIL用Qz模具、PET薄膜模具及DSA薄膜模具等
ZX-D
ZX-D 是一款兼容传统光掩膜工艺的 CD-SEM。由于采用与 ZX 系列相同的平台，因此可以根据客户需求将其升级为 ZX 系列。
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