■EBLITHOは、微細性と生産性を満たす完全周期ナノ構造をEpi基板に非接触で転写できます。
■ステンシルマスクを用いて高スループットを実現し、低CoO (Cost of Ownership)を達成しています。
■ナノインプリント用大面積モールド（10mm□領域）に微細パターンを10秒で転写できます。

• substrates processable　2”～6 ”φ
• Stage available for warpage of a 200nm substrate (Option)