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EMUシリーズ(フォトマスクCD-SEM)

EMU-270A 世界で初めて「収差補正器」Aberretion CorrectionをCD-SEMに搭載!

ホロンは超微細パターンに対応するため、収差補正機能付レンズ※1を搭載したCD-SEMを世界で初めて商品化しました。
従来機に比べ分解能を50%向上させ、1.5nm(1kV)を達成しました。これにより再現精度も格段に向上し、業界最高性能を誇っています。
また、チャージアップ対策については、これまでに培ったノウハウを最適化し、あらゆるサンプルでチャージフリーを実現。光ナノインプリント用モールドの観察・計測にも対応しています。

※1:日本電子(株)との共同開発

基本仕様
分解能 1.5nm (1kV)
Static再現性 0.3nm (3σ)
Dynamic再現性 0.45nm (3σ)
EMU-270Aイメージ

EMU-270 Wind-SEM の採用により全てのマスクをチャージの影響が無く、安定して測定出来ます。

より厳しくなるチャージアップ、そのチャージ対策の決定版ともいえる‘Wind-SEM’
エッチング後のレジストマスクを含む全てのマスクを安定して計測可能。また、その他チャージアップしやすい石英ウエハ等への対応も可能です。
Wind方式とは、チャンバー内の圧力を高く保ち、一定の風‘Wind’を与えることでチャージを抑制する方式です。

基本仕様
分解能 3nm/1kV
Static再現性 0.4nm
Dynamic再現性 0.6nm
EMU-270イメージ