当社の主力製品であるマスク用CD-SEMは、半導体デバイス製造プロセス(図１)のマスク工程で使用されるマスクの製造工程で必要となります。マスク製造工程で使用される装置は、大きくマスクパターン形成装置(マスク描画装置)とマスク検査修正装置に分類され、当社製品は寸法測定装置のEB式寸法測定装置に該当します。

マスクは、CADで作られた描画データを基に、マスク描画装置でブランクスと呼ばれる石英ガラス基板にパターンニング焼付けされ、検査・修正の後完成します。ここまでがマスク製造工程です。

その後、マスクは半導体デバイス会社（工場）に納入され、フォトリソ工程の“転写”(図１)に使われます。転写工程では、ステッパー（縮小投影装置）に原版として組み込まれ、２０数枚のマスクを交換しながらウエハに縮小転写します。尚、ステッパに使用されるマスクを特に「レチクル」と表現する場合が多くあります。