平素は格別なご支援、ご高配を賜り、厚く御礼申し上げます。

2009年は厳しいビジネス環境の中にありましたが、当社はフォトマスクCD-SEMの売上回復によりようやく黒字に転換することができました。これは、絶縁物表面を安定に測定できるというホロン独自の技術が認められた結果です。

2010年に入り、アジアを中心とする半導体需要の急速な回復に伴って、半導体のみならず製造装置など周辺産業にも全体として立ち直りの兆候が見られるようになりました。当社もこの上げ潮の機会を逃さず、積極的な営業活動を進め多くの受注獲得を目指します。

半導体産業は好不況の波を繰り返すことで知られていますが、必ずしも同じ波が繰り返しているわけではありません。ひとつの波ごとに進化し、様相を変えて行きます。
装置メーカーは絶えずこの変化を予測し対応する装置を作らなければ競争から脱落することになってしまいます。半導体回路のパターンは年毎に縮小し、かつ複雑化しています。したがって、パターンの測定の方法も従来の方法では十分でなく、複雑な形状に対応した測定方法に進化しなければなりません。今後も、ホロンのCD-SEMは新しい測定技術を追求して、常に最先端の商品を提供したいと考えております。

さらに昨年よりNEDOの助成を受けて新技術の研究開発を進め、今も継続しています。これは従来のCD-SEM依存の体質からの脱却を目指すもので、今年度はその仕上げの年であり、必ずやこの開発を成功させ、次年度からの新製品として結実させたいと考えております。