株式会社ホロン 半導体検査装置の開発、製造、販売、保守サービス

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FM 638414/ISO9001
ZX
ZX
フォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術、チャージ対策技術をさらに進化させて開発しましたsub-10nm最先端デバイス用マスクCD-SEM「ZX」の販売を開始いたしました。
FM 638414/ISO9001
LEXa-10 HR
LEXa-10 HR
フォトマスク用DR-SEM LEXa-10をさらに発展させ、分解能、安定性をより進化させたLEXa-10 HRを発表いたしました。フォトマスク、EUVマスク表面の微小粒子状物質、残留薄膜などの元素分析(EDS)を短時間で正確に行うことができます。ハイエンドプロセス開発加速に大いに貢献します。

当社は常にお客様のニーズに対応した製品を開発し、提供しております。